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儀器用途簡介：汽車鋼板上的防銹油、滾軋潤滑油等涂油量的測量耐指紋、潤滑性鋼板等有機油膜厚度的測量鋁罐（易拉罐內壁）等有機膜涂布量的測量彩色鋼板的底漆厚度及背面涂布量的測量其他金屬上有機膜涂布量的測量技術參數：測量方法:紅外反射吸收方式(旋轉過濾器方式)測量范圍:0.1～10μm反復再現性:0.01μm以下測量面積:518×36mm(橢圓)尺寸?重量:100(W)×210(D)×145(H)、約1.5kg主要特點：三點定位，獨特光源，精確精確再精確。本產品深得鋼鐵業、鋁業客戶厚愛。如果把紅外線照射到被測物上

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Filmetrics的精密光譜測量系統讓用戶簡單快速地測量薄膜的厚度和光學常數，通過對待測膜層的上下界面間反射光譜的分析，幾秒鐘內就可測量結果。當測量需要在待測樣品表面的某些微小限定區域進行，或者其他應用要求光斑小至1微米時，F40是不錯的選擇。

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以真空鍍膜為設計目標，F10-RT 只要單擊鼠標即可獲得反射和透射光譜。 只需傳統價格的一小部分，用戶就能進行分析、確定 FWHM 并進行顏色分析。 可選的厚度和折射率模塊讓您能夠充分利用 Filmetrics F10 的分析能力。測量結果能被快速地導出和打印。

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F10-HC現在能夠執行自動化基準矯正以及設置自己的積分時間這個方法不需要頻繁的執行基準矯正就可以讓使用者立即的執行樣本的測量 。

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不論您是想要知道薄膜厚度、光學常熟，還是想要知道材料的反射率和透過率，F20都能滿足您的需要。僅需花費幾分鐘完成安裝，通過USB連接電腦，設備就可以在數秒內得到測量結果。

供應商：優尼康科技有限公司

Filmetrics的精密光譜測量系統讓用戶簡單快速地測量薄膜的厚度和光學常數，通過對待測膜層的上下界面間反射光譜的分析，幾秒鐘內就可測量結果。

供應商：北京華儀通泰環?？萍加邢薰?/p>

儀器詳情德國BMT 932臭氧檢測儀是一個咱家的先進的UV光子垢儀用于測量和監控的臭氧含量環境空氣。德國BMT 932臭氧檢測儀產品簡介：?該臭氧檢測儀BMT 932是一個咱家的先進的UV光子 垢儀用于測量和監控的臭氧含量 環境空氣?該儀器可以訂購1，3，或6個樣品的渠道。 從通道切換到通道是自動或手動通過 按下按鈕?洗滌器是任何光度的很重要的元素 臭氧監測。 該臭氧檢測儀BMT 932有兩個 正是臭氧選擇性洗滌器：一種實用洗滌，并 1儲備洗滌。 另外它有一個內置的臭氧 發電機，定期測試工具的能力 洗滌器

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儀器詳情德國BMT 930臭氧檢測儀是一個咱家的先進的UV 光度計測量和監測的臭氧含量環境空氣，該儀器可以訂購1，3，或6個樣品的渠道。德國BMT 930臭氧檢測儀產品簡介：?該臭氧檢測儀BMT 930是一個咱家的先進的UV 光度計測量和監測的臭氧含量 環境空氣?該儀器可以訂購1，3，或6個樣品的渠道?從通道切換到通道是自動或手動通過 按下按鈕?在BMT 930具有2洗滌器（洗氣裝置是一個 很重要的環境臭氧監測的元素）?它有一個內置的臭氧發生器，用于間歇的自動測試 該實用程序洗滌。當這種洗滌器完全失效 由

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儀器詳情德國BMT 964 AQ-LC臭氧在潔凈的水傳感器是一個精的紫外光光度計直接測量的清晰和干凈的水的臭氧含量無氣泡。德國BMT 964 AQ-LC臭氧在潔凈的水傳感器產品簡介：?臭氧在潔凈的水傳感器BMT 964 AQ-LC是一個精的紫外光光度計直接測量的清晰和干凈的水的臭氧含量無氣泡?明確表示：非常低濁度?清潔方法：對的QUARZ比色皿窗口內surfaces.Cleaning非常低的存款 - 如果需要的話 - 是很簡單的?在用臭氧水接觸的材料：不銹鋼，聚四氟乙烯，石英和光度計AFLAS.Super

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儀器詳情德國BMT 964 AQ高濃度臭氧在水中的傳感器是UV光度計直接測量超純水，去離子水的臭氧含量，該儀器是根據我們的臭氧分析儀BMT 964用于氣態臭氧。德國BMT 964 AQ高濃度臭氧在水中的傳感器產品簡介：?臭氧在水中的傳感器BMT 964 AQ是UV光度計直接測量超純水，去離子水的臭氧含量?一個特殊版本BMT 964 AQ / HF達5％的氫氟酸，范圍50 ppm時，可用?該儀器是根據我們的臭氧分析儀BMT 964用于氣態臭氧?在BMT 964 AQ是一個傳感器，因為它不具有顯示器。 它

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NanoCalc 薄膜反射測量系統薄膜的光學特性主要有反射和干涉.NanoCalc薄膜反射測量系統可以用來進行10nm~250μm的膜厚分析測量，對單層膜的分辨率為0.1nm。根據測量軟件的不同，可以分析單層或多層膜厚。產品特點可分析單層或多層薄膜分辨率達0.1nm適合于在線監測操作理論最常用的兩種測量薄膜的特性的方法為光學反射和投射測量、橢圓光度法測量。NanoCalc利用反射原理進行膜厚測量。查找n和k值可以進行多達三層的薄膜測量，薄膜和基體測量可以是金屬、電介質、無定形材料或硅晶等。NanoCalc

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薄膜測厚儀儀器簡介：提供了二維分析、三維分析、表面紋理分析、粗糙度分析、波度分析、PSD分析、體積、角度計算、曲率計算、模擬一維分析、數據輸出、數據自動動態存儲、自定義數據顯示格式等。綜合繪圖軟件可以采集、分析、處理和可視化數據。表面統計的計算包括峰值和谷值分析?；诟盗⑷~變換的空間過濾工具使得高通、低通、通頻帶和帶阻能濾波器變的容易。多項式配置、數據配置、掃描、屏蔽和插值。交互縮放。X-Y和線段剖面。三維線路、混合和固定繪圖。用于階越高度測量的地區差異繪圖。膜厚儀主要特點：◆微觀二維（2D）和三維(3D

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WLI LA 白光干涉儀德國BMT WLI LA 白光干涉儀比使用顯微物鏡的設備可測面積大得多，同時具有非常高的數值孔徑。非常適于平整度測量。特點：● 表面輪廓和平整度測量；● 粗糙和光滑表面均可測量；● 測量不受顏色和材料影響；● 數秒內完成測量；● 測量范圍大。技術參數：適用于較大面積平面的表面結構形狀測量測量頭● 光源 LED● 測量范圍 （μm) 100/150● 垂直分辨率（nm） ≥1● 橫向分辨率（μm） 30● 測量面積 （mm） 14×10● 工作距離 （mm) 24● 數碼相機＜14位

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德國BMT WLI Linik干涉儀 特點： 區域表面的形貌測量； 數秒內快速測量； 粗糙和光滑表面都可測量； 測量結果不受樣品的顏色和材料影響； 產品堅固耐用。 技術參數：

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WLIRing 測量系統用于快速準確測量圓柱形工件的表面形貌，計算粗糙度參數，微觀結構，及外壁表面特征。WLI Ring 產品特點● 對內外壁都可進行測量；● 光滑粗糙表面都可進行測量；● 測量結果不受工件的顏色和材料影響；● 數秒內快速測量；● 用于在線測量的OEM測量頭。技術參數測量頭光源： LED垂直分辨率（nm）： <1水平分辨率（μm）：≥1焦距，大約（mm)： 1測量區域的尺寸： 由物體決定圖像尺寸（Pixel）： 1000&×1000

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德國BMT WLI Lab 白光干涉儀德國BMT WLI Lab 白光干涉儀可準確快速測量表面輪廓、粗糙度參數、臺階高度及其他各種表面參數，具有穩定性高，設計堅固和易于操作的特點。LED光源的應用使得在即使是很微弱的反射表面上也可進行測量。專為電子、汽車、工程工業、研究所而特別研發。主要用途： ........◆ 粗糙和光滑表面的顯微測量◆ 產品凸凹結構圖◆ 可根據特殊用途定制主要特點：◆粗糙和光滑表面的顯微測量；◆數秒內快速測量；◆快速更換被測物；◆測量結果不受樣品的顏色和材料影響；◆產品堅固耐用。技術

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WLI Infra干涉儀德國BMT WLI Infra干涉儀是用于硅薄膜的厚度測量設備。儀器適用于實驗室、車間和生產線上的質量管理。測量頭提供的重復性，設計堅固緊湊、免維護，適用于在線測量。產品特點：MEMS、硅梁、透明薄材料的非接觸高精度厚度測量；納米級分辨率；手動或自動測量步驟設計，簡單易用；不受溫度變化和熱效應的影響；的重復性；可配備表面輪廓測量。技術參數：厚度分辨率（nm） <1探針大小 （μm） 約150（可定制）厚度范圍 （μm） 0.1-600儀器尺寸 （mm） 320x320x

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儀器簡介：臺階儀該款臺階儀提供了二維分析、三維分析、表面紋理分析、粗糙度分析、波度分析、PSD分析、體積、角度計算、曲率計算、模擬一維分析、數據輸出、數據自動動態存儲、自定義數據顯示格式等。綜合繪圖軟件可以采集、分析、處理和可視化數據。表面統計的計算包括峰值和谷值分析?；诟盗⑷~變換的空間過濾工具使得高通、低通、通頻帶和帶阻能濾波器變的容易。多項式配置、數據配置、掃描、屏蔽和插值。交互縮放。X-Y和線段剖面。三維線路、混合和固定繪圖。用于階越高度測量的地區差異繪圖。臺階儀主要特點： ◆微觀二維

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NanoMap-1000WLI 膜厚儀儀器簡介：該膜厚儀提供了二維分析、三維分析、表面紋理分析、粗糙度分析、波度分析、PSD分析、體積、角度計算、曲率計算、模擬一維分析、數據輸出、數據自動動態存儲、自定義數據顯示格式等。綜合繪圖軟件可以采集、分析、處理和可視化數據。表面統計的計算包括峰值和谷值分析?；诟盗⑷~變換的空間過濾工具使得高通、低通、通頻帶和帶阻能濾波器變的容易。多項式配置、數據配置、掃描、屏蔽和插值。交互縮放。X-Y和線段剖面。三維線路、混合和固定繪圖。用于階越高度測量的地區差異繪圖。主要特點：

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白光干涉測量系統沿著垂直軸向捕獲光強數據，通過白光干涉圖的形狀，局部相位或者兩者結合確定表面位置 Vertical Resolution 垂直分辨率 0.1nm 0.1nm Turret 轉輪 upto 6 objective turret (manual or automatic) 6鏡頭轉輪（自動或手動） Scan Rang

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美國Rtec三維形貌儀測量系統沿著縱軸捕獲一系列位置的光強數據。通過白光干涉圖的形狀，干涉圖的局部相位或者是二者的結合來確定表面位置。本公司還有激光共焦，白光共焦，拉曼光譜儀等，可以把這些設備自由組合在一起，以實現客戶的不同需求特點：快速直觀的操作較高的計算程序，精確的高測量速度和簡便的操作軟件，使用戶能夠快速的分析和創建報告多個物鏡帶有6物鏡轉輪，包括多個物鏡：長焦，短焦，不同數值孔徑，投射鏡頭等電子器件先進的控制器，低機械噪聲，自校準系統，可選波長，64位并行處理器，標準分辨率達到1

供應商：安柏來科學儀器（上海）有限公司

技術特點光學方法，非接觸、無損測量，安全無輻射?？焖倌ず穹治?，只需幾毫秒即可獲得測量結果膜厚測量范圍 0.1- 150微米( 0.004 to 6 mil )極高的分析準確度，在整個厚度測量范圍內偏差小于0.005微米可同時分析計算兩層膜厚可同時支持實驗室離線分析或者在線生產分析主要用于全球主要的汽車燈以及CD生產商進行有機膜厚測試。

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產品描述TranSpecMicro新的光纖耦合TranSpecMicro薄膜厚度顯微鏡可以將薄膜厚度測量點的大小降到50-100um。測量點的圖像可通過裝在顯微鏡上的特殊彩色相機實時查看。TranSpecMicro薄膜厚度測量儀和我們TranSpec和TranSpecLite儀器一樣采用白光干涉原理。為了測量非常小的點，TranSpecMicro使用裝有實時顯示相機的光纖耦合顯微鏡。光纖耦合纖維鏡可以將薄膜厚度測量點的大小降到50-100um（根據放大倍數的不同），測量點的圖像可通過裝在顯微鏡上的特殊彩色

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產品描述TranSpec光譜儀結合創新的光電技術與強大的模擬/數字電子技術和zuixin的計算機技術。借助于靈活的光纖，TranSpec的應用范圍從標準的常規實驗室分析到在線過程測量技術的特殊任務。使用FSMA標準光纖連接的高穩定性光電二級管陣列分光計使用spurious-free動態范圍的1MHz16位模擬/數字轉換器針對紫外線……近紅外光譜范圍可使用不同的分光計模塊可選的集成鹵素或氘/鹵素結合光譜燈無可移動部分-無需重復校準-無需維護可連接到標準USB2.0（USB3.0）或選擇連到以太網/局域網可用

供應商：安柏來科學儀器（上海）有限公司

等離子體發射測量在紫外線…近紅外線范圍可同時觀察到等離子發射低壓等離子沉積技術是一個客觀的連續不斷的過程，如PVD（物理氣象沉積）是今天真正的問題之一。除了等離子體發射光的表觀檢查，有時也使用質譜技術。但是質譜技術既不方便操作，其結果也不容易理解。與此相比，使用OES（發射光譜）和光纖耦合TranSpec光譜儀的有點是顯而易見的。技術特征在200…1000nm光譜范圍內可同時測量可檢測非常底的發射信號可連接到幾乎每個真空室無需維護舒適和易于使用的PEMProVis專業版軟件用于全球主要的汽車燈以及CD生產

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儀器簡介： 1996年以來，科美在半導體，平板顯示器，電子物質，生命科學和化學分析上，研發和提供了獨特的，先進的解決方案?？泼?，作為測量和分析技術市場上的領頭和動力，以它突出的表現得到了世界范圍的認可。 技術參數： 活動范圍 150 x 120mm(70 x 50mm 移動距離) 測量范圍 200~ 35(根據膜的類型) 光斑尺寸 20 典型值 測量速度 1

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儀器簡介： 1996年以來，科美在半導體，平板顯示器，電子物質，生命科學和化學分析上，研發和提供了獨特的，先進的解決方案?？泼?，作為測量和分析技術市場上的領頭和動力，以它突出的表現得到了世界范圍的認可。 技術參數： 活動范圍 200mm x 200mm(8"), 300mm x 300mm(12") 測量范圍 100~ 35(Depends on Film Type) 光斑尺寸 40/20, 4(option) 測量

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儀器簡介：1996年以來，科美在半導體，平板顯示器，電子物質，生命科學和化學分析上，研發和提供了獨特的，先進的解決方案?？泼?，作為測量和分析技術市場上的領頭和動力，以它突出的表現得到了世界范圍的認可。技術參數：波長范圍 420nm ~ 640nm 厚度測量范圍 350 ~ 3 最小光斑尺寸 1.35, 0.135 目標面積 864X648 / 86.4X64.8 物鏡轉動架 5X(spot size 20), 50X(spot size 0.2)

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產品特點： ?非接觸式、不破壞樣品的光干涉式膜厚計。?高精度、高再現性測量紫外到近紅外波長反射率光譜，分析多層薄膜厚度、光學常數（n：折射率，k消光系數）。?寬闊的波長測量范圍。（190nm-1100nm）?薄膜到厚膜的膜厚測量范圍。（1nm~250μm）?對應顯微鏡下的微距測量口徑。產品規格： 標準型厚膜專用型膜存測量范圍1nm~40μm0.8μm~250μm波長測量范圍190~1100n

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產品特點：?橢圓偏振術測量紫外光到可見光波長橢圓參數。?0.1nm以上奈米級光學薄膜厚度測量。?400波長以上多通道分光的橢偏儀，高速測量橢圓偏光光譜。?可自由變換反射測量角度，得到更詳細的薄膜解析數據。?非線性最小平方法解析多層膜、光學常數。產品規格： 膜厚測量范圍0.1nm~波長測量范圍250~800nm（可選擇350～1000nm）感光元件光電二極管陣列512ch（電子制冷）入射/反射角度范圍45～90o電源規格AC1500VA（全自動型)尺寸

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產品特點：?400波長以上多通道分光的橢偏儀，高速測量橢圓偏光光譜。?自動變更反射測量角度，可得到更詳細的薄膜解析數據。?采用正弦桿自動驅動方式，展現測量角度變更時優異的移動精度。?搭載薄膜分析所需的全角度同時測量功能。?可測量晶圓與金屬表面的光學常數(n:折射率、k:消光系數)。產品規格： 樣品對應尺寸100×100mm測量方式偏光片元件回轉方式入射/反射角度范圍45～90o入射/反射角度驅動方式反射角度可自動變更波長測量范圍300～800nm分光

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產品特點：?薄膜到厚膜的測量范圍、UV～NIR光譜分析。?高性能的低價光學薄膜測量儀。?藉由反射率光譜分析膜厚。?完整繼承FE-3000高端機種90%的強大功能。?無復雜設定，操作簡單，短時間內即可上手。?非線性最小平方法解析光學常數(n:折射率、k:消光系數)。產品規格： 型號FE-300VFE-300UVFE-300NIR對應膜厚標準型薄膜型厚膜型超厚膜型樣品尺寸最大8寸晶圓（厚度5mm）膜厚范圍100nm~40μm10nm~20μm3μm~30

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產品特點：?自由搭配的光纖架構，可安裝于生產線上、半導體晶圓研磨設備或真空鍍膜設備中。?遠端同步控制、高速多點同步測量等。?豐富多樣的光學系統套件與應用軟件，提供特殊環境下最理想的膜厚解決方案。產品架構： ?半導體晶圓面內分布測量?玻璃基板面內分布測量?即時性量測?輸送方向的定點品質管理?對應真空環境之設備?即時性測量?輸送方向的全面品質管理

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產品特點：?光譜儀(MCPD-9800/MCPD-3700/MCPD-7700)提供豐富選配套件以及客制化光纖。?可依據安裝現場需求評估設計。?可靈活架設于各種環境下的**即時測量系統。測量項目： 分光光譜儀種類測量波長范圍MCPD-9800：高動態范圍型360～1100nmMCPD-3700：紫外/可視/近紅外光型220~1000nmMCPD-7700：高感度型220~1100nm平面顯示器模組測量：平面顯示器（FPD）模組、液晶顯示器（LCD）模

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儀器簡介： 1996年以來，科美在半導體，平板顯示器，電子物質，生命科學和化學分析上，研發和提供了獨特的，先進的解決方案?？泼?，作為測量和分析技術市場上的領頭和動力，以它突出的表現得到了世界范圍的認可。 技術參數： 活動范圍 300mm x 300mm 測量范圍 100~ 35(Depends on Film Type) 光斑尺寸 40/20,4(option) 測量速度 1~2 sec./site (fitting

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儀器簡介：1996年以來，科美在半導體，平板顯示器，電子物質，生命科學和化學分析上，研發和提供了獨特的，先進的解決方案?？泼?，作為測量和分析技術市場上的領頭和動力，以它突出的表現得到了世界范圍的認可。技術參數：活動范圍 ~300mm x 300mm 測量范圍 100~ 35(Depends on Film Type) 光斑尺寸 40/20,4(option) 測量速度 1~2 sec./site(fitting time) 應用領域 All Capabili