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測量厚度從1nm到10mm的先進膜厚測量系統如果您正在尋找一款儀器，需要測量厚度、測量光學常數或者僅需要測量材料的反射率和穿透率，F20您值得擁有。僅僅幾分鐘內就可以安裝好，通過USB與電腦連接，測量數據結果不到一分鐘就能得到。

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塑料薄膜厚度測量儀 薄膜等包裝材料厚度是否均勻一致，是檢測薄膜各項性能的基礎。薄膜厚度不均勻，不但會影響到薄膜各處的拉伸強度、阻隔性等，更會影響薄膜的后續加工。厚度測量儀適用于2mm范圍內各種薄膜、復合膜、紙張、金屬箔片等硬質和軟質材料厚度精確測量。

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TFMS-IV系列緊湊型高精度反射膜厚儀，利用光學干涉原理，通過分析薄膜表面反射光和薄膜與基底界面反射光相干涉形成的反射譜，快速準確測量薄膜厚度、光學常數等信息。反射膜厚儀廣泛應用于各種介質保護膜、有機薄膜、無機薄膜、金屬膜、涂層等薄膜測量。1、光學薄膜測量解決方案 2、非接觸、非破壞測量 3、覆蓋單層到多層薄膜 4、核心算法覆蓋薄膜到厚膜 5、配置靈活、支持定制化 6、采用高強度鹵素燈光源，光譜覆蓋可見光到近紅外范圍 7、采用光機電高度整合一體化設計，體積小，操作簡便 8、基于薄膜層上界面與下界面的

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EQ-TM106膜厚監測儀是采用石英晶體振蕩原理，結合先進的頻率測量技術，進行膜厚的在線監測。主要應用于MBE、OLED熱蒸發、磁控濺射等設備的薄膜制備過程中，用于對膜層厚度及鍍膜速率進行實時監測。EQ-TM106膜厚監測儀根據制備薄膜的實時速率可以輸出PWM（脈沖寬度調制）模擬量，作為膜厚傳感器使用，與調節儀和蒸發電源配合實現蒸發源的閉環速率控制，從而檢測所制備薄膜的厚度。EQ-TM106膜厚監測儀體積小巧可節省實驗室空間，原理簡單，操作方便，尤其適合于實驗室中薄膜制備過程的使用。 1、本機可與計算

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SGC-10薄膜測厚儀，適用于介質，半導體，薄膜濾波器和液晶等薄膜和涂層的厚度測量。該薄膜測厚儀，是與美國new-span公司合作研制的，采用new-span公司先進的薄膜測厚技術，基于白光干涉的原理來測定薄膜的厚度和光學常數（折射率n，消光系數k）。它通過分析薄膜表面的反射光和薄膜與基底界面的反射光相干形成的反射譜，用相應的軟件來擬合運算，得到單層或多層膜系各層的厚度d，折射率n，消光系數k。1、非接觸式測量，用光纖探頭來接收反射光，不會破壞和污染薄膜； 2、測量速度快，測量時間為秒的量級； 3、可

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TF200薄膜厚度測量系統利用薄膜干涉光學原理，對薄膜進行厚度測量及分析。用從深紫外到近紅外可選配的寬光譜光源照射薄膜表面，探頭同位接收反射光線。TF200根據反射回來的干涉光，用反復校準的算法快速反演計算出薄膜的厚度。測量范圍1nm-3mm，可同時完成多層膜厚的測試。對于100nm以上的薄膜，還可以測量n和k值。 產品型號 TF200-VIS TF200-EXR TF200-DUV TF200-XNIR 主要特點 快

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ComBi-D3涂鍍層測厚儀是一款磁性、渦流兩用的便攜式覆層測厚儀，它能快速、無損傷、精密地測量磁性金屬基體(如鋼、鐵、合金和硬磁性鋼等)上非磁性覆蓋層的厚度(如鋅、鋁、鉻、銅、橡膠、油漆等)，也可以用于非磁性金屬基體(如銅、鋁、鋅、錫等)上非導電覆蓋層的厚度(如:橡膠、油漆、塑料、陽極氧化膜等)的測量 ComBi-D3涂鍍層測厚儀既可用于實驗室中對樣品表面的薄膜厚度的測量，也可用于工程現場，因其具有小巧、便攜、測量JZ的特點而被廣泛用于制造業、金屬加工業、化工業、商檢等檢測領域。涂鍍層測厚儀可對鐵基

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TFMS-LD反射光譜薄膜測厚儀是一款利用反射光譜測試薄膜厚度的儀器，可快速精確地測量透明或半透明薄膜的厚度而不損傷樣品表面的薄膜，是一款無損測厚儀，其測量膜厚范圍為15nm-50um，測量膜厚范圍廣，尤其適用于超薄薄膜厚度的測量。儀器所發出測試光的波長范圍為400nm-1100nm，波長范圍廣，因此，測試薄膜厚度的范圍廣。TFMS-LD反射光譜薄膜測厚儀測試系統的理論基礎為鏡面光纖反射探頭，該儀器尺寸小巧可節省實驗室空間，操作方便，讀數直觀，方便于在實驗室中擺放和使用。

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SKCH-1（A）精密測厚儀是一種結構簡單、價格便宜、高精度的測量裝置。實驗室常用的測厚儀有指針型和數顯型兩種類型，指針型價格相對便宜，數顯型讀數直觀靈敏，可根據個人使用習慣進行選擇。SKCH-1（A）精密測厚儀主要用于各類材料厚度的精密測量，也可用于其它物品的高度與厚度的測量。測量時應注意為保證讀數的準確無誤，測厚儀的工作臺一定要放到穩定的水平臺面上。測厚儀結構簡單，體積小巧，使用簡單方便，是實驗室中測量物品厚度的十分適合的量具1、采用精密花崗巖工作平臺，精度等級為“00”級。 2、千分表精 度等級

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只需按下一個按鈕，您在不到一秒鐘的同時測量厚度和折射率。設置同樣簡單, 只需插上設備到您運行Windows?系統計算機的USB端口, 并連接樣品平臺 。

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C12562 納米膜厚測量儀系列C12562型光學膜厚測量儀是一款利用光譜相干度量學工作的非接觸型膜厚測量系統。光學膜厚測量儀系列可以測量薄至10nm的薄膜，而可測范圍達到10nm到1100μm，因此可用來測量多種目標。此外，該測量儀可達到100Hz的高速測量，因此可進行快速移動的產品線進行測量。歡迎您登陸濱松ZG全新中文網站http://www.hamamatsu.com.cn/查看該產品更多詳細信息！特性可測量10nm薄膜縮短測量周期（頻率高達100Hz）增強型外部觸發（適合高速測量）涵蓋寬波長范圍（

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C11627-01 納米膜厚測量儀系列C11627-01型光學膜厚測量儀是一款利用光譜相干度量學工作的非接觸型膜厚測量系統。因其將光源、分光光度計和數據分析單元集成為一個單元，所以其配置緊湊，僅由一個主單元和光纖組成。此儀器設計緊湊，節省空間，適合安裝進用戶的系統中，可進行多種目標的測量。此外，該儀器為無參照物測量，因此省略了煩人的參照物測量，可長時間穩定地進行高速、高準確度測量。歡迎您登陸濱松ZG全新中文網站http://www.hamamatsu.com.cn/查看該產品更多詳細信息！特性無參照物工作

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C11011-01W 微米膜厚測量儀C11011-01W型光學微米膜厚測量儀利用激光相干度量學原理，測量速度達60Hz，適用于產品線上在線測量。此外，選配的映射系統可以測量指定樣品的厚度分布。C11011-01W應用廣泛，比如用于產品制造過程監控或質量控制。歡迎您登陸濱松ZG全新中文網站http://www.hamamatsu.com.cn/查看該產品更多詳細信息！特性利用紅外光度測定進行非透明樣品測量測量速度高達60 Hz測量帶圖紋晶圓和帶保護膜的晶圓長工作距離映射功能可外部控制參數型號C11011-0

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C11295 多點納米膜厚測量儀C11295型多點納米膜厚測量系統使用光譜相干測量學，用以測量半導體制造過程中的薄膜厚度，以及安裝在半導體制造設備上的APC和薄膜的質量控制。C11295可進行實時多點測量，也可以在膜厚測量中同時測量反射率（透射率）、目標顏色以及暫時變化。歡迎您登陸濱松ZG全新中文網站http://www.hamamatsu.com.cn/查看該產品更多詳細信息！特性多達15點同時測量無參照物工作通過光強波動校正功能實現長時間穩定測量提醒及警報功能(通過或失敗)反射(透射)和光譜測量高速、

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OPTM 系列顯微分光膜厚儀使用顯微光譜法在微小區域內通過JD反射率進行測量，可進行高精度膜厚度/光學常數分析。

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F10-AR 是為簡便而經濟有效地測試眼科減反涂層設計的儀器。 F10-AR 使線上操作人員經過幾分鐘的培訓，就可以進行厚度測量。

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自動化薄膜厚度繪圖系統Filmetrics F50 系列的產品能以每秒測繪兩個點的速度快速的測繪薄膜厚度。一個電動R-Theta 平臺可接受標準和客制化夾盤，樣品直徑可達450毫米。(耐用的平臺在我們的量產系統能夠執行數百萬次的量測!)測繪圖案可以是極座標、矩形或線性的，您也可以創造自己的測繪方法，并且不受測量點數量的限制。內建數十種預定義的測繪圖案。

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動化薄膜厚度分布圖案系統依靠F54光譜測量系統，可以很簡單快速地獲得直徑450毫米的樣品薄膜的厚度分布圖。采用r-θ極坐標移動平臺，可以非?？焖俚亩ㄎ凰铚y試的點并測試厚度，測試非?？焖?，大約每秒能測試兩點。系統中預設了許多極坐標形、方形和線性的圖形模式，也可以編輯自己需要的測試點。只需掌握基本電腦技術便可在幾分鐘內建立自己需要的圖形模式。

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測量厚度從1nm到10mm的先進膜厚測量系統如果您正在尋找一款儀器，需要測量厚度、測量光學常數或者僅需要測量材料的反射率和穿透率，F20您值得擁有。僅僅幾分鐘內就可以安裝好，通過USB與電腦連接，測量數據結果不到一分鐘就能得到。

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本產品的便攜性使其可以在任何地方進行簡單而高精度的測試和評估。其與EX-400&EX-86U準分子燈具備同樣的工作表現，并專為R&D在線操作設計而成。因此，可直接將EX-mini中獲得的評估結果用于在線操作任務中。

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帶有內部電源的“一體機”式設計實現了緊湊、質量輕的結構，從而不需要選擇特定空間，免去了安裝上的麻煩，可以輕松地在生產現場進行設置。在線使用中的高通用性使得EX-86U十分容易裝配入現有的線路、重新部署的生產線等。

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使用扁平長燈和RF（射頻）放電可在大面積上均勻照射并減少閃爍，從而提供穩定的輸出。 與電暈放電法，等離子體法，甚至其他準分子燈相比，EX-400可確保高精度，高質量的修改，清潔和粘合。

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C12570系列是孔洞檢測裝置，用于檢測層壓薄膜和金屬箔中的孔洞。 由于采用非接觸式光學檢測，被檢測的樣品不會暴露在液體或特殊環境的壓力中（例如電場、磁場和電解質溶液）。 C12570系列采用高靈敏度的光電倍增管，可以高精度地檢測微小的孔洞。

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C11740是一種孔洞檢測裝置，專門用于檢測罐中的孔洞，內部包含一個高靈敏度光學傳感器（光電倍增管），可以高速，高精度地檢測微小的孔洞?？蓽y量參數包括一個大面積光敏區域和一個強光保護電路，該保護電路非常適合孔洞檢測。 C11740外部控制輸入/輸出裝置可以讓操作者輕松地對在線檢測和其他檢測進行設置。

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C11011-01型光學微米膜厚測量儀利用激光相干度量學原理，測量速度達60Hz，適用于產品線上在線測量。此外，與mapping工作臺聯用可以測量指定樣品的厚度分布。C11011-01應用廣泛，比如用于產品制造過程監控或質量控制。 C11011-01可測玻璃膜厚范圍分別為25 μm 到2200 μm 和 10 μm 到 900 μm.

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C11011-01W型光學微米膜厚測量儀利用激光相干度量學原理，測量速度達60Hz，適用于產品線上在線測量。此外，與Mapping工作臺聯用可以測量指定樣品的厚度分布。C11011-01W應用廣泛，比如用于產品制造過程監控或質量控制。C11011-01W測量玻璃膜厚范圍分別為25 μm 到 2900 μm 和10 μm 到1200 μm。

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C11295型多點納米膜厚測量系統使用光譜相干測量學，用以測量半導體制造過程中的薄膜厚度，以及安裝在半導體制造設備上的APC和薄膜的質量控制。C11295可進行實時多點測量，也可以在膜厚測量中同時測量反射率（透射率）、目標顏色以及暫時變化。

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C13027型光學納米膜厚測量系統是一款利用光譜干涉法測量薄膜厚度的非接觸式測量系統。C13207不僅支持PLC連接，而且其設計尺寸比其他型號更緊湊，便于設備安裝。Optical Gauge系列不僅能夠測量10納米以下極薄薄膜的厚度，而且還具有超寬測量范圍，可以覆蓋從10納米到100微米的各種薄膜厚度。 Optical Gauge系列可以進行高達200 Hz的快速測量，因此非常適合高速生產線測量。

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C12562型光學納米膜厚測量系統是一款小型緊湊、節省空間、安裝方便的非接觸式薄膜厚測量系統。在半導體工業中，硅通孔技術的普及使得硅厚度測量變得必不可少；在薄膜生產工業中，越來越高的產品需求使得粘合層薄膜的制作朝著越來越薄的方向發展。因此，這些工業領域需要更高精度、測量范圍可以覆蓋1μm到300μm的厚度測量系統。C12562可以對厚度范圍從0.5μm到300μm的薄膜進行精確測量，包括薄膜鍍層厚度和薄膜襯底厚度以及總厚度。C12562可以進行高達100 Hz的快速測量，因此非常適合高速生產線測量。

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C10178型光學納米膜厚測量系統是一款利用光譜干涉法測量薄膜厚度的非接觸式測量系統。光譜干涉法可以快速、高精度以及高靈敏度地測量出薄膜厚度。濱松的產品使用多通道光譜儀PMA作為檢測器，測量各種光學濾光片和涂膜厚度的同時還可以測量量子產率，反射率，透射/吸收率等參數。 C10178-02支持UV（200 nm至950 nm）。

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C10178型光學納米膜厚測量系統是一款利用光譜干涉法測量薄膜厚度的非接觸式測量系統。光譜干涉法可以快速、高精度以及高靈敏度地測量出薄膜厚度。C13027使用多通道光譜儀PMA作為檢測器，測量各種光學濾光片和涂膜厚度的同時還可以測量量子產率，反射率，透射/吸收率等參數。 C10178-03J支持NIR（900 nm至1650 nm）。

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C10178型光學納米膜厚測量系統是一款利用光譜干涉法測量薄膜厚度的非接觸式測量系統。光譜干涉法可以快速、高精度以及高靈敏度地測量出薄膜厚度。我們的產品使用多通道光譜儀PMA作為檢測器，測量各種光學濾光片和涂膜厚度的同時還可以測量量子產率，反射率，透射/吸收率等參數。 C10178-03E支持NIR（900 nm至1650 nm） (AC200 V to AC240 V, 50 Hz / 60 Hz)

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C11011-21型光學微米膜厚測量儀利用激光干涉法原理，測量速度達60Hz，適用于產品在線測量。此外，選配的作圖系統可以用于測量指定樣品的厚度分布。C11011-01W應用廣泛，比如用于產品制造過程監控或質量控制。C11011-21可測玻璃膜厚范圍分別為25 μm 到2200 μm 和10 μm 到 900 μm，可測層數zui多為10層。

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C11011-21W型光學微米膜厚測量儀利用激光干涉法原理，測量速度達60Hz，適用于產品線上在線測量。此外，與mapping工作臺聯用可以用于測量指定樣品的厚度分布。C11011-21W應用廣泛，比如用于產品制造過程監控或質量控制。 C11011-21W可測玻璃膜厚范圍分別為25 μm 到2900 μm 和10 μm 到 1200 μm，可測層數zui多為10層。

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F3-sX家族利用光譜反射原理，可以測試眾多半導體及電解層的厚度，可測zuida厚度達3毫米。此類厚膜，相較于較薄膜層表面較粗糙且不均勻，F3-sX系列配置10微米的測試光斑直徑因而可以快速容易的測量其他膜厚測試儀器不能測量的材料膜層。而且僅在幾分之一秒內完成。

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依靠 F60光學膜厚測量儀的光譜測量系統，可以很簡單快速地獲得薄膜的厚度分布圖。采用 r-θ 極坐標移動平臺，可以非?？焖俚亩ㄎ凰铚y試的點并測試厚度，測試非?？焖?，大約每秒能測試兩點。用戶可以自己繪制需要的點位地圖。在約 45 秒的時間就可以掃描完標準 49 點分布圖。